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集成电路布图设计保护制度推动

摸鱼不慌 2026-08-03 21:07:18

记者今天（3日）了解到，为推动完善集成电路布图设计保护制度，紧密配合衔接《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）《集

国家知识产权局发布集成电路布图设计实施细则修订征求意见稿，截止至2026年9月3日

国家知识产权局研究起草了《集成电路布图设计审查与执法指南修改草案（征求意见稿）》，并于今日公布以征求社会意见，截止日期设定为2026年9月3日。

本次修订主要针对登记审查、复审撤销、行政裁决和许可质押四个部分，每部分均涉及原有规定的细化和完善，旨在提升审查效率和审查标准的一致性。

集成电路布图设计，作为半导体产业基础要素，指集成电路内部的连接 pattern 设计。此次修改草案明确了对诚实信用原则的强化应用，以规避恶意申请和滥用专有权行为。

修订后，登记审查划分为受理与审查环节，前者注重材料合规性，后者执行实质性审查，效果体现在不同通知书的输出机制上。许可与质押部分则简化了电子申请流程，强调备案与登记的透明度，但也列出了不予受理的具体情形。

在登记审查方面，草案完善了审查标准，包括拒绝基于不诚实行为的申请，并要求明确独创性声明中指定独创性区域的方式。同时优化了流程结构，通过分开形式审查和实质性审查，提高了整体处理透明度。

具体而言，对于申请撤回或权利恢复的审查规定得到补充，且费用缴纳机制被明确，确保申请人在规定时限内操作。此类修改强调了申请人需主动遵守时限要求。集成电路布图设计保护有助于防止抄袭并激励创新设计。

第二部分聚焦于复审与撤销程序，强调了对独创性声明的修改限制，一般不允许增加独创性部分，仅能放弃已主张内容。程序性规则也进行了调整，例如引入审查回避制度以维护公平性。

国家知识产权局通过此次修订，着力于增强审查的规范性和侵权保护能力，预计能提升集成电路产业的整体积极性。

影响层面涉及未来产业发展，此举或推动标准统一，促进更高效的知识产权管理机制。

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