国务院修订《集成电路布图设计保护条例》2026年正式施行

国务院总理李强近日签署国务院令，修订后的《集成电路布图设计保护条例》将于2026年10月15日起施行。此次修订旨在完善集成电路知识产权保护体系，鼓励产业技术创新。

修订内容聚焦四大重点领域

新修订的《条例》共6章54条，主要涉及保护目标设定、申请审查流程、专有权保护力度以及设计运用促进等方面。

《条例》明确规定，集成电路布图设计保护工作需贯彻党和国家知识产权战略部署，扩展保护范围，强调诚实信用原则。

• 程序完善：细化申请材料要求，增加权利恢复程序，对虚假申请行为予以规制。
• 保护加码：明确权利范围界定标准，提升侵权赔偿标准。
• 运用促进：规范共有人权利行使，完善转让、许可等要求。

集成电路布图设计专有权

集成电路布图设计专有权是指权利人依法就集成电路布图设计享有的专有性权利，属于知识产权的一种。此次修订通过明确权利边界和细化保护措施，旨在为集成电路企业创新提供更强法律保障。

业内指出，新规施行后，将通过优化审查流程、加大侵权惩处等手段，更好激发半导体产业创新活力，促进相关技术发展与应用。

　　全文

集成电路布图设计保护条例全文发布 保护期为10年

国务院知识产权行政部门近日发布《集成电路布图设计保护条例》，旨在保护集成电路布图设计专有权，鼓励技术创新和科技成果发展。条例将于2026年10月15日起施行。

条例核心内容

条例明确，集成电路是指以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上的中间产品或者最终产品。而布图设计则是指该元件和互连线路的三维配置，或为制造集成电路准备的三维配置。

条例规定，布图设计保护期最长为10年，自布图设计登记申请之日或首次投入商业利用之日起计算，以较早日期为准。无论是否登记或投入商业使用，布图设计自创作完成之日起15年后不再受保护。

条例对布图设计的专有权进行界定：布图设计权利人有权对布图设计进行复制，并可将布图设计、含有该设计的产品投入商业利用。这些权利需要经过国务院知识产权行政部门登记才能产生法律效力。

登记与权利归属

申请人可通过国务院知识产权行政部门或委托专利代理机构提交布图设计登记申请。申请材料包括布图设计登记申请表、布图设计复制件或图样、独创性声明等。

• 独创性声明需指明设计区域、设计要点及相应功能
• 布图设计自首次商业利用之日起2年内未申请登记，将不予保护
• 国有单位主持创作的布图设计，单位被认定为创作者

条例还规定，两个以上主体合作创作的布图设计，权利归属由合作者约定；未约定的，由合作者共同享有。委托创作的布图设计，权利归属由双方约定；未约定的，由受托人享有。

权利行使与期限规定

布图设计权利人可以转让或许可他人使用其布图设计。转让需订立书面合同并办理登记手续，许可他人使用则需向国务院知识产权行政部门备案。

条例特别指出，对于布图设计专有权的共有人，没有约定时共有人可单独使用或以普通许可方式许可他人使用，但使用费需在共有人间分配。

“布图设计作为知识产权保护的新型客体，其独创性要求设计是创作者自己的智力成果，并且在创作时不是公认的常规设计。”业内人士解释道。

在权利期限方面，条例规定布图设计专有权的保护期为10年，与创作完成之日起15年的最长期限以较早者为准。

法律保护与例外情况

未经布图设计权利人许可复制布图设计或为商业目的进口、销售含有布图设计的集成电路，均构成侵权。侵权赔偿数额计算依据权利人损失或侵权人获利确定，难以确定的可参照许可使用费。

条例还列出了几种可以不经许可使用布图设计的情况：为个人目的或评价研究目的复制；在评价基础上创作出新设计；独立创作出相同设计等情况。

特殊情况下，国务院知识产权行政部门可给予非自愿许可使用权，如国家紧急状态、公共目的需求或针对垄断行为。符合条件的单位和个人需向权利人支付合理使用费。

附则与施行

根据条例，公众在未来可获得查阅布图设计登记簿或相关资料的权利，但严禁随意复制布图设计的电子版本。申请登记和办理其他手续需按规定缴纳费用。

条例的最后条款规定，任何国家或地区若对中国的布图设计保护采取歧视性措施，中国将采取适当的反制措施。条例发布后，社会各界对集成电路知识产权保护将进入一个新的规范化阶段。